게시판 공지사항

하이닉스반도체 측정 (Metrology/Inspection) 기술개발 분야 박사 신입/경력 사원 채용

김재현 hit 660 date 2010-02-02
 ㈜하이닉스반도체에서 측정 (Metrology/Inspection) 기술개발 분야 박사 신입/경력 사원을 채용하오니, 역량있는 분들의 많은 지원 바랍니다.  < P class=MsoNormal>1. 모집부문
- 측정 (Metrology/Inspection) 기술개발
2. 고용형태
- 정규직
3. 근무지
- 이천
4. 수행업무
- DRAM/Flash 디바이스 미세화 및 STT-RAM, ReRAM, PCRAM 차세대 메모리 개발에 따른 선행 측정 응용 기술 개발
- 측정 기술 선도 그룹 ITRS Metrology/Yield Enhancement, Sematech Metrology 프로그램 및CNSE Metrology Lab. 측정 기술 개발 업무 참고
- 광학 기술을 이용한 3D구조에서의 모델링 기술 개발 : 차세대 Gate Tr.구조에 대한 Dimension 측정 개발 (Optical CD 알고리즘 개발)
- 반도체 박막의 두께 측정 응용 기술 개발 : 박막 특성분석을 통한 공정 개선 (Ellipsometry, X-ray)
- Nano스케일 패턴 결함 검사 기술 개발 : Optic, e-Beam Inspection 장비 응용을 통한 Pattern 결함 검사 기술 개발
- Pattern Image Processing을 통한 측정기술 개발 : Image Processing 및 알고리즘 개발

< P class=MsoNormal>5. 채용 배경

< P class=MsoNormal>- 반도체 공정 기술 발전에 따른 지속적인 미세화는 기존 측정기술의 한계를 넘는 나노 수준의 초정밀 측정/분석 기술 개발을 요구하고 있음.

< P class=MsoNormal>- 현재의 반도체 생산 공정 라인에서는 다양한 측정/분석 난제에 직면하고 있어 이에 대한 기술적 해결 및 표준화 지원이 매우 시급하게 요청되고 있음.

< P class=MsoNormal>- 반도체 크기 감소에 따라 보다 정확하고 정밀한 측정/분석 기술이 요구되어 반도체 소자 제작 비용 중 메트롤로지 분야의 비용이 급격히 증가되고 있어 메트롤로지 기술 개발 및 표준화에 의한 수율 향상으로 반도체 제작 비용의 감축이 시급함.

< P class=MsoNormal>6. 자격요건

< P class=MsoNormal>- 박사학위 이상
- 물리(광학), 재료, 전기/전자 전공
- 군필 또는 면제자
- 과장급
7. 지원방법

< P class=MsoNormal>. 지원방법

< P class=MsoNormal>- 지원서 접수기간 : 2010. 01. 19(화) ~ 2010. 02. 11(목)

< P class=MsoNormal>- 하이닉스반도체 채용 사이드에서 입사지원서 양식을 다운로드 받아 이메일 첨부로 jee.kim@hynix.com 으로 송부

< P class=MsoNormal>
8. 전형절차

< P class=MsoNormal>- 서류전형 → 서류전형결과 발표→ 면접전형 → 최종합격자 발표 → 건강검진 → 입사
9. 기타

< P class=MsoNormal>- 기타 문의사항은 하이닉스반도체 채용담당자(jee.kim@hynix.com, 031-630-3805) 에게 문의 바랍니다.

< P class=MsoNormal style=\"MARGIN: 0cm 0cm 0pt; WORD-BREAK: keep-all; TEXT-ALIGN: left\" align=left>- http://www.hynix.co.kr/ko/employment/employment_news.jsp?menuNo=5&m=1&s=1

첨부파일