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한국광학회 리소그래피분과 단기 강좌

사무국 hit 1594 date 2018-04-05

한국광학회 리소그래피분과 단기 강좌

 

주제: “Bright and Dark Side of EUVL”

강사: 강호영 박사 (TEL technology center of America, research scientist SMTS)

날짜: 2018/05/02, 10:00 ~ 18:00

장소: 한양대학교 에리카캠퍼스 과학기술2관 110호

주관: 한국광학회 리소그래피분과

수강료: 일반 25 만원, 학생 10 만원

사전 신청 문의: 오혜근 (010-2375-5475, hyekeun@hanyang.ac.kr), 노희라(031-400-4137, 010-3156-6852, lavender0322@naver.com)

내용 (source, system, mask /OPC, resist / stochastics)

초대의 :

EUV lithography는 미세 공정을 위한 필수 기술이라고 생각되고 있고 수년 내에 양산 기술이 될 것으로 예측되고 있습니다. 그러나 상세한 내용은 많이 알려져 있지 않습니다. 학회 등의 발표 내용으로 개발 내용을 추정할 수 있으나 비 전문가에게 이런 일을 요구하는 것은 어려운 과제라고 보입니다.

특히 반도체 제조업체가 아닌 주변 업체나 연구소에서는 전체적인 윤곽을 파악하는 것이 어려워 연구와 개발방향을 잘못 파악하는 경우가 많은 것으로 보이고 있습니다.

EUV에 대한 막연한 기대만으로는 유용한 기술을 개발할 수도 없고 실용화하기 어렵습니다. 그래서 EUV관련 많은 분야들에서 나오는 난제를 정리하고 왜 그것이 난제인지, 해결 방법 또는 회피 방법이 있는지 등에 대해 생각해 보고자 합니다.


강사 경력: Micron technology: Lithography strategy for memory device. EUV and Pitch quad                       

ASML Technology development center 2007. – 2012 senior Imaging Scientist: EUVL technology and SMO 

Cypress semiconductor, MTS process development 2002 – 2007 SRAM combined logic process development, OPC model generation, some scripting and related metrology issue, Image sensor development: Litho process & sensing quality Improvement (QE/Cross talk, Color separation quality

Samsung Electronics Ltd. Semiconductor division 1984 – 1998 Principle process development engineer / manager of lithography, many new process development for memory and Logic

강사 학력: Ph. D. Rochester Institute of Technology, Imaging Science. MS Hanyang Univ. BS Seoul National University

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